RTA系列快速熱退火爐 |
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| 分類 | Advance Riko 紅外金面反射爐 |
| 型號 | RTA |
| 品牌 | Advance Riko |
| 產地 | 日本，進口 |
RTA系列快速熱退火爐
RTA系列可處理2~12 英寸（50~300mm）的樣品，10s內即可到設置的退火溫度。
該爐體采用水冷壁的結構，結合紅外加熱的高能量密度，近紅外的波長快速升溫特點，搭配高精度，快速響應的溫控器進行精確溫度控制。
RTA系統(tǒng)可滿足用戶對于工藝配方的控制（溫度控制，升降溫速率控制，氣氛及氣體流量控制等）。RTA系統(tǒng)有助于找到最佳的熱處理方式
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應用 |
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· 離子注入后的活化退火 |
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· 沉積氧化膜的退火 |
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· 歐姆電極合金化 |
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· PZT，SBT和其它鐵電薄膜的結晶退火 |
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· 硅化物及自對準硅化物的生成 |
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· 發(fā)光元件，半導體激光基板的熱處理 |
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· 超淺結的生成 |
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· 鐵電電容器沉積 |
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· 柵氧化膜的生成 |
特點：
· 最高升溫速率可達200℃/s
· 可搭配自動傳樣機器人
· 可連接半導體制造設備
· 各個加熱區(qū)的燈管功率單獨可控，可以對不同尺寸的樣品實現均勻加熱
參數：
上海市楊浦區(qū)長陽路1687號長陽創(chuàng)谷2號樓2層204-2室 021-58362581 ；58362582 vicky.yuan@k-analys.com 18964508748 ；18964505659
